- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25F - Procédés pour le traitement d'objets par enlèvement électrolytique de matière; appareillages à cet effet
- C25F 3/26 - Polissage des métaux lourds des métaux réfractaires
Détention brevets de la classe C25F 3/26
Brevets de cette classe: 43
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Consolidated Nuclear Security, LLC | 124 |
3 |
Toshiba Materials Co., Ltd. | 600 |
3 |
Hirtenberger Engineered Surfaces GmbH | 19 |
3 |
BIOTRONIK AG | 387 |
2 |
Faraday Technology, Inc. | 31 |
2 |
Kabushiki Kaisha Toshiba, doing business as Toshiba Corporation | 6275 |
2 |
Siemens AG | 24990 |
1 |
Honeywell International Inc. | 13799 |
1 |
Abbott Laboratories Vascular Enterprises Limited | 60 |
1 |
Toshiba Corporation | 12017 |
1 |
Hitachi High-Tech Science Corporation | 326 |
1 |
Koninklijke Philips N.V. | 22975 |
1 |
Boston Scientific Scimed, Inc. | 8794 |
1 |
Brown University | 576 |
1 |
Cilag GmbH International | 5813 |
1 |
City University of Hong Kong | 684 |
1 |
Istituto Nazionale di Fisica Nucleare | 87 |
1 |
Jefferson Science Associates, LLC | 106 |
1 |
MetCon LLC | 3 |
1 |
Renishaw plc | 739 |
1 |
Autres propriétaires | 14 |